Descubre las últimas innovaciones en tecnología con Intel, Samsung y ASML

• Intel, Samsung y ASML discuten sobre la tecnología y escáneres EUV High-NA
• ASML está trabajando en mejorar la tecnología EUV Low-NA
• Samsung se muestra preocupado por los altos costes de los nuevos escáneres
• Intel se posiciona a favor de los nuevos escáneres y trabaja en mejorar los existentes

ASML busca mejorar la tecnología EUV Low-NA

ASML ha escuchado las críticas del sector y está trabajando en mejorar la tecnología EUV Low-NA para satisfacer las necesidades de las empresas. Se están desarrollando nuevos iluminadores para aumentar el coeficiente K1 y mejorar la eficiencia de los escáneres actuales.

Samsung preocupado por los altos costes de los nuevos escáneres

Samsung muestra preocupación por los altos costes, el peso y el tamaño de los nuevos escáneres EUV High-NA. Seog Kang de Samsung afirma que los escáneres actuales son suficientes para la memoria y se muestra reticente a invertir en los nuevos modelos.

Intel apuesta por los nuevos escáneres y trabaja en mejorar los existentes

Intel se muestra entusiasmada con los nuevos escáneres EUV High-NA y está trabajando en máscaras de cambio de fase para mejorar los escáneres existentes. La compañía también ha adquirido herramientas de Applied Materials para reducir el número de pasos en el grabado de chips con doble patrón en EUV, lo que le otorga una ventaja estratégica frente a la competencia.